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親水性白炭黑納米分散機(jī)，GMSD2000系列超剪切納米分散機(jī)，采用膠體磨+分散機(jī)一體化的結(jié)構(gòu)，二級(jí)模塊處理，先研磨后分散，打開(kāi)白炭黑的聚集體，然后再瞬間充分均勻的分散，一般氣相法白炭黑分散后，粒徑可達(dá)DN90小于300nm。
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軟團(tuán)聚納米材料高剪切分散機(jī)，采用膠體磨+分散機(jī)一體化的結(jié)構(gòu)，二級(jí)模塊處理，先研磨后分散，打開(kāi)納米粉體的聚集體，然后再瞬間充分均勻的分散，一般納米材料分散后，粒徑可達(dá)DN90小于300nm。
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GR2000沉淀法白炭黑超細(xì)分散機(jī)模塊--實(shí)現(xiàn)混合分散粒徑要求的關(guān)鍵部分，是由兩層分散頭構(gòu)成，分散頭由定子齒列和轉(zhuǎn)子齒列構(gòu)成，構(gòu)成的分散剪切的幾何學(xué)形狀，在馬達(dá)帶動(dòng)下，在齒列間隙中獲得的平均線(xiàn)速度非常高，能實(shí)現(xiàn)高達(dá)10000rpm的剪切率來(lái)獲得超細(xì)微懸浮液。
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光觸媒研磨分散機(jī)是高剪切膠體磨+高剪切分散機(jī)的設(shè)備，將兩者一體化，解決了時(shí)間差的問(wèn)題，因?yàn)槲锪蠄F(tuán)聚是一個(gè)瞬間的過(guò)程，研磨后立即分散，效果好，效率高。
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SGN氮化物研磨分散機(jī)，SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機(jī)，是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團(tuán)聚。
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