GMO2000/04分體式高剪切氧化鋯陶瓷膠體碳纖維電容漿料Z高轉速可以達到14000RPM。中德合作研發(fā)項目,磨頭配合精密度高,相對于國產膠體磨此款膠體磨比普通的膠體磨的運轉速度達到4-5倍以上,定轉子配合間隙在0.2-0.3mm之間,分散乳化均質研磨效果非常好。
GMO2000/04分體式高剪切氧化鋯陶瓷膠體磨
陶瓷膠體磨
是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
陶瓷膠體磨的細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。
GMO2000/04分體式高剪切氧化鋯陶瓷膠體磨
高剪切膠體磨主要用途:
高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎,能琪到各種半濕體及乳狀液物質德粉碎、乳化、均質和混合,主要技術指標已達到國外同類產品的水平。
依肯高剪切膠體磨優(yōu)勢:
GM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
三級錯齒結構的研磨轉子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui大的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
磨頭
SGN膠體磨轉速:
7890/13789RPM可以通過變頻調速通過皮帶加速我們軸承可以承受140000RPM(轉速是他們的3-4倍,研磨的力度也是他們的3-4倍,這樣研磨的細度更小)。
SGN膠體磨結構:
三道磨碎區(qū),一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。雖然都是三級結構,但是他們的設計不同理念不同,形狀及齒列的結構。
SGN膠體磨磨頭的結構:
溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
陶瓷膠體磨有以下的優(yōu)點
結合優(yōu)良的研磨效果的高吞吐量
定制不同的研磨刀頭,實現多種研磨剪切速率
為減少顆粒大小的控制,可無限調整定子/轉子之間的間隙設置
SGN膠體磨GM與生產系統(tǒng)的密實度作為機器聯(lián)機設計的結果。
適合于粘度高達50,000mPas的各種粘度范圍的物料
能在高達16bar的壓力下操作
容易擴大規(guī)模生產,從實驗室機器MK開發(fā)到生產機器MK
所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼
具有耐磨材料的高性能機械密封密封
高質量的表面處理,便于清洗
可根據要求提供其他材料和表面處理
機器可自動排水,具有GSP和SSP功能
噪音低
根據符合EHEDG(歐洲衛(wèi)生工程設計集團)準則制造
符合3A衛(wèi)生和認證
根據需要提供制藥
根據提供的ATEX95指導方針執(zhí)行防爆
設備等級:化工級、衛(wèi)生S級、衛(wèi)生SS級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇:380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件:PTG熱保護、降噪型
膠體磨材質:SUS304、SUS316L、SUS316Ti
膠體磨選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
膠體磨表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
膠體磨選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
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